Hafnium tetraklorid | HFCL4 pulver | CAS 13499-05-3 | Fabrikkpris

Kort beskrivelse:

Hafnium tetraklorid har viktige anvendelser som forløper for hafniumoksyd, katalysator for organisk syntese, kjernefysiske anvendelser og tynnfilmavsetning, og fremhever dens allsidighet og betydning på forskjellige teknologiske felt.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Send e -post til oss

Produktdetaljer

Produktkoder

Produktbeskrivelse

Kort introduksjon

Produktnavn: Hafnium tetraklorid
CAS-nr.: 13499-05-3
Sammensatt formel: HFCL4
Molekylvekt: 320,3
Utseende: Hvitt pulver

Spesifikasjon

Punkt	Spesifikasjon
Utseende	Hvitt pulver
HFCL4+ZRCL4	≥99,9%
Zr	≤200 ppm
Fe	≤40 ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40 ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25 ppm
U	≤5ppm
Al	≤60 ppm

Søknad

Hafnium dioksidforløper: Hafnium tetraklorid brukes først og fremst som en forløper for å produsere hafniumdioksid (HFO2), et materiale med utmerkede dielektriske egenskaper. HFO2 er mye brukt i høy-K dielektriske applikasjoner for transistorer og kondensatorer i halvlederindustrien. HFCL4 er essensiell i fremstilling av avanserte elektroniske enheter på grunn av dens evne til å danne tynne filmer av hafniumdioksid.
Organisk syntesekatalysator: Hafnium tetraklorid kan brukes som katalysator for forskjellige organiske synteseaksjoner, spesielt olefinpolymerisasjon. Lewis -syreegenskapene er med på å danne aktive mellomprodukter, og forbedrer dermed effektiviteten av kjemiske reaksjoner. Denne applikasjonen er verdifull i produksjonen av polymerer og andre organiske forbindelser i den kjemiske industrien.
Nukleær anvendelse: På grunn av det høye nøytronabsorpsjonstverrsnittet, er Hafnium tetraklorid mye brukt i kjernefysiske anvendelser, spesielt i kontrollstenger av kjernefysiske reaktorer. Hafnium kan effektivt absorbere nøytroner, så det er et passende materiale for å regulere fisjonsprosessen, noe som bidrar til å forbedre sikkerheten og effektiviteten til kjernekraftproduksjon.
Tynn filmavsetning: Hafnium tetraklorid brukes i kjemisk dampavsetning (CVD) prosesser for å danne tynne filmer av hafniumbaserte materialer. Disse filmene er viktige i en rekke bruksområder, inkludert mikroelektronikk, optikk og beskyttende belegg. Evnen til å sette inn ensartede filmer av høy kvalitet gjør HFCL4 verdifulle i avanserte produksjonsprosesser.