Hafniumtetraklorid | HfCl4-pulver | CAS 13499-05-3 | fabrikkpris

Kort beskrivelse:

Hafniumtetraklorid har viktige bruksområder som forløper for hafniumoksid, katalysator for organisk syntese, kjernefysiske applikasjoner og tynnfilmavsetning, noe som fremhever dens allsidighet og betydning innen ulike teknologiske felt.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Send e-post til oss

Produktdetaljer

Produktetiketter

Produktbeskrivelse

Kort introduksjon

Produktnavn: Hafniumtetraklorid
CAS-nr.: 13499-05-3
Forbindelsesformel: HfCl4
Molekylvekt: 320,3
Utseende: Hvitt pulver

Spesifikasjon

Punkt	Spesifikasjon
Utseende	Hvitt pulver
HfCl4+ZrCl4	≥99,9 %
Zr	≤200 ppm
Fe	≤40 ppm
Ti	≤20 ppm
Si	≤40 ppm
Mg	≤20 ppm
Cr	≤20 ppm
Ni	≤25 ppm
U	≤5 ppm
Al	≤60 ppm

Søknad

HafniumdioksidforløperHafniumtetraklorid brukes primært som en forløper for å produsere hafniumdioksid (HfO2), et materiale med utmerkede dielektriske egenskaper. HfO2 er mye brukt i dielektriske applikasjoner med høy k-faktor for transistorer og kondensatorer i halvlederindustrien. HfCl4 er viktig i produksjonen av avanserte elektroniske enheter på grunn av dets evne til å danne tynne filmer av hafniumdioksid.
Organisk syntesekatalysatorHafniumtetraklorid kan brukes som katalysator for ulike organiske syntesereaksjoner, spesielt olefinpolymerisasjon. Lewis-syreegenskapene bidrar til å danne aktive mellomprodukter, og forbedrer dermed effektiviteten av kjemiske reaksjoner. Denne anvendelsen er verdifull i produksjonen av polymerer og andre organiske forbindelser i den kjemiske industrien.
Nukleær anvendelsePå grunn av sitt høye tverrsnitt for nøytronabsorpsjon er hafniumtetraklorid mye brukt i kjernefysiske applikasjoner, spesielt i kontrollstenger i kjernereaktorer. Hafnium kan effektivt absorbere nøytroner, så det er et passende materiale for å regulere fisjonsprosessen, noe som bidrar til å forbedre sikkerheten og effektiviteten til kjernekraftproduksjon.
TynnfilmavsetningHafniumtetraklorid brukes i kjemisk dampavsetning (CVD) for å danne tynne filmer av hafniumbaserte materialer. Disse filmene er essensielle i en rekke bruksområder, inkludert mikroelektronikk, optikk og beskyttende belegg. Evnen til å avsette ensartede filmer av høy kvalitet gjør HfCl4 verdifull i avanserte produksjonsprosesser.